海外参展应当关注哪些知识产权问题？

海外参展常见知识产权风险

企业海外参展常见的知识产权风险集中在专利权（发明、实用新型和外观设计）风险、商标权风险和版权风险三大方面。

专利权风险

参展产品一般融合了***的研发成果，因其外型、结构、原理被抄袭而引发的专利侵权纠纷是展会中发生比例最高的。外观设计专利、普通的实用新型专利，内行人只要看一眼，立刻就能模仿。大部分的展会查抄都因专利而起，并且已经由简单的外观设计、实用新型侵权纠纷发展成为复杂的、不易判断的发明专利侵权纠纷。

商标权风险

商标具有地域性，在中国注册的商标，只在中国受保护，在参展地没有注册，则不受保护。如果某企业的商标在中国注册，但在参展地却被其他人抢注成功，那么企业未经授权在参展地使用该商标就属于侵权行为。如果是被他人许可使用的商标，还需注意商标许可是有期限性的，超期仍使用有可能被诉商标侵权。此外，如果在商品、包装以及相关广告宣传品上出现了在中国属于通用名称而在其他国家受法律保护的商标（如“MTV”）时，企业也可能在不知情的情况下被视为商标侵权。

版权风险

参展企业散发的参展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的展台使用了他人设计方案，都可能导致侵犯他人版权。展会中，因使用背景音乐、他人摄影作品或美术作品等而被追究责任的纠纷也时有发生。企业还应注意展会现场使用的电脑中所承载的软件是否是正版。

海外参展知识产权风险的表现形式

产品侵权

知识产权在参展产品中的体现最为集中。例如，一件包含了节能技术的灯具展品，其结构设计和节能技术方案可能受到发明或实用新型专利权的保护；灯具的外形可能受到外观设计专利的保护；如果该灯具的商标进行了注册或虽未注册但声名远扬的，则可能享有商标专有权的保护；该灯具的使用说明书可能涉及版权的保护。此外，视当地的知识产权制度规则，还有可能涉及货源标记、原产地名称、商业秘密等知识产权保护。参展产品正是众多知识产权的综合载体。因此，参展企业需要避免因产品的专利、商标、版权侵权等问题遭遇竞争对手起诉或管理机构的执法处理。